特許
J-GLOBAL ID：200903018534938804

光導波路および光導波路の作製方法。

発明者：
南村 清之

南村 清之 について

, 
永野広作

永野広作 について

, 
平尾一之

平尾一之 について


出願人/特許権者：
鐘淵化学工業株式会社

鐘淵化学工業株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-230940
公開番号（公開出願番号）：特開2003-131058
出願日： 2002年08月08日
公開日（公表日）： 2003年05月08日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】高分子材料に光導波路を簡便に作製する製造方法および簡便に製作された3次元化も容易な光導波路を提供すること。【解決手段】一つの高分子材料の内部にレーザ光を集光照射することにより、屈折率の異なるコアとクラッド層を形成して光導波路を製造する。特にレーザー光の集光照射を、高分子材料の内部で集光点を相対移動させる、あるいはレーザ光の集光点に対し高分子材料を連続的に移動させるによって行い、かつ高分子材料にピーク出力値が高いパルスレーザーを照射することによって上記課題を解決する。
請求項（抜粋）：
【請求項1 】 レーザ光の集光照射により屈折率が変化した部分が高分子材料の内部に連続して形成されている光導波路。
IPC (5件)：
G02B 6/13 ,  C08J 7/00 302 ,  C08J 7/00 CEZ ,  G02B 6/12 ,  C08L101:00
FI (5件)：
C08J 7/00 302 ,  C08J 7/00 CEZ ,  C08L101:00 ,  G02B 6/12 M ,  G02B 6/12 N
Fターム (21件)：
2H047KA04 ,  2H047KA12 ,  2H047PA22 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05 ,  4F073AA32 ,  4F073BA06 ,  4F073BA12 ,  4F073BA13 ,  4F073BA18 ,  4F073BA22 ,  4F073BA23 ,  4F073BA25 ,  4F073BA26 ,  4F073BA28 ,  4F073BA29 ,  4F073BA31 ,  4F073BA32 ,  4F073BA33 ,  4F073BB01 ,  4F073CA46
引用特許：
審査官引用 (14件)
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