特許
J-GLOBAL ID:200903045327240276
ポジ型フォトレジスト組成物
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
萩野 平 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-328119
公開番号(公開出願番号):特開平8-184963
出願日: 1994年12月28日
公開日(公表日): 1996年07月16日
要約:
【要約】【目的】 高解像力、高感度、広いデフォーカスラチチュードを有するポジ型フォトレジスト組成物を提供することにある。【構成】 m-及びp-クレゾール並びに2,3-、3,4-及び3,5-キシレノールの内少なくとも1種のキシレノールを一定量含有する単分散のアルカリ可溶性ノボラック樹脂、3〜7個のフェノール性水酸基を有する化合物と1,2-ナフトキノンジアジド-5(及び/又は-4)-スルホニルクロリドとのエステル化物である1,2-キノンジアジド化合物、低分子量でで2〜7個のフェノール性水酸基を有する化合物であるアルカリ溶解促進剤、を一定量含有する。
請求項(抜粋):
アルカリ可溶性ノボラック樹脂(A)、1,2-キノンジアジド化合物(B)及びアルカリ溶解促進剤(C)を含むポジ型フォトレジスト組成物において、該アルカリ可溶性ノボラック樹脂(A)が、下記(1)〜(3)のモノマーとアルデヒド類とを縮合させることにより得られるノボラック樹脂であり、該アルカリ可溶性ノボラック樹脂の、重量平均分子量が3000〜20000、分散度(Mw/Mn)が1.5〜4.0であり、更に2.38%テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド水溶液23°C中のノボラック樹脂のアルカリ溶解速度が3〜100Å/秒であり、(1)m-クレゾール 40〜90モル%(2)p-クレゾール 2〜4モル%(3)2,3-キシレノール、3,4-キシレノール及び3,5-キシレノールから選ばれる少なくとも1種のキシレノール 10〜60モル%該1,2-キノンジアジド化合物(B)が、分子内に3〜7個のフェノール性水酸基を有するポリヒドロキシ化合物と1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホニルクロリド及び/又は1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホニルクロリドとのエステル化物であり、該アルカリ溶解促進剤(C)が、分子量1000以下で分子内に2〜7個のフェノール性水酸基を有するポリヒドロキシ化合物であり、且つ、アルカリ溶解性ノボラック樹脂(A)100重量部に対し、1,2-キノンジアジド化合物(B)の添加量が35〜100重量部、アルカリ溶解促進剤(C)の添加量が10〜60重量部であることを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。
IPC (4件):
G03F 7/023 511
, G03F 7/004 501
, G03F 7/039 501
, H01L 21/027
引用特許:
審査官引用 (6件)
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感光性樹脂組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-013903
出願人:日立化成工業株式会社
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感光性樹脂組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-208932
出願人:日立化成工業株式会社
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ポジ型感放射線性樹脂組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-216991
出願人:日本合成ゴム株式会社
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特開平4-122938
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ポジ型フオトレジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-302218
出願人:日立化成工業株式会社
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特開昭60-140235
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