特許
J-GLOBAL ID：200903045437960410
高精細サンドブラスト加工法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
名嶋 明郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-274720
公開番号（公開出願番号）：特開2001-096462
出願日： 1999年09月28日
公開日（公表日）： 2001年04月10日
要約：
【要約】【課題】 従来法の加工限界を上回る高精細加工の可能なサンドブラスト加工法を提供する。【解決手段】 基板の表層に25μm以下の厚みの感光性樹脂フィルムをラミネートしてフォトレジスト層とし、次いで、このフォトレジスト層にフォトマスクを介して露光量50〜150mJ/cm2 の平行光による露光を行なったうえ現像してマスキングパターンを形成し、このマスキングパターンを通じて基板の表層に微細砥粒をエアーとともに吹き付ける。
請求項（抜粋）：
基板の表層に25μm以下の厚みの感光性樹脂フィルムをラミネートしてフォトレジスト層とし、次いで、このフォトレジスト層にフォトマスクを介して露光量50〜150mJ/cm2 の平行光による露光を行なったうえ現像してマスキングパターンを形成し、このマスキングパターンを通じて基板の表層に微細砥粒をエアーとともに吹き付けることを特徴とする高精細サンドブラスト加工。
引用特許：
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