特許
J-GLOBAL ID：200903045470807180

パターン形成体の製造方法

発明者：
鵜野 雄介

鵜野 雄介 について

, 
小林 弘典

小林 弘典 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (2件)： 山下 昭彦 ,  岸本 達人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-130293
公開番号（公開出願番号）：特開2004-333914
出願日： 2003年05月08日
公開日（公表日）： 2004年11月25日
要約：
【課題】高精細にパターンを形成することが可能であり、かつ連続してパターン形成体の製造を行う際にも、光触媒含有層の酸化分解力が一定であり、形成されたパターンの形状を制御することが可能なパターン形成体の製造方法を提供する。【解決手段】光エネルギー照射に伴う光触媒の作用により特性が変化し、かつハロゲンを含有しない特性変化層2を有するパターン形成体用基板3と、光触媒を含有する光触媒含有層5および基体4を有する光触媒含有層側基板6とを、前記特性変化層2および前記光触媒含有層5が200μm以下となるように間隙をおいて配置した後、所定の方向からエネルギー8を照射することにより、前記特性変化層2表面に特性の変化した特性変化パターン9を形成するパターン形成工程を有することを特徴とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
エネルギー照射に伴う光触媒の作用により特性が変化し、かつハロゲンを含有しない特性変化層を有するパターン形成体用基板と、光触媒を含有する光触媒含有層および基体を有する光触媒含有層側基板とを、前記特性変化層および前記光触媒含有層が200μm以下となるように間隙をおいて配置した後、所定の方向からエネルギーを照射することにより、前記特性変化層表面に特性の変化した特性変化パターンを形成するパターン形成工程を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法。
IPC (1件)：
G02B5/20
FI (1件)：
G02B5/20 101
Fターム (8件)：
2H048BA02 ,  2H048BA11 ,  2H048BA55 ,  2H048BA56 ,  2H048BA58 ,  2H048BA60 ,  2H048BA64 ,  2H048BB02
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (9件)
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