特許
J-GLOBAL ID：200903045563753462
レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石田 敬 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-242053
公開番号（公開出願番号）：特開2001-066778
出願日： 1999年08月27日
公開日（公表日）： 2001年03月16日
要約：
【要約】【課題】 レジストの高感度を保ちつつ解像度を向上させることが可能なレジスト組成物を提供すること。【解決手段】 化学増幅型のレジスト組成物において、メチルアダマンチル(メタ)アクリレートとビニルフェノールやビニルフェノール誘導体との酸感応性共重合体を基材樹脂として含むように構成する。
請求項（抜粋）：
次式(A)により表される第1のモノマー単位:【化1】(上式において、Rは、水素原子、ハロゲン原子又は1〜4個の炭素原子を有するアルキル基を表し、R1〜R5は、それぞれ、同一もしくは異なっていてもよく、水素原子、水酸基又は1〜4個の炭素原子を有するアルキル基を表し、但し、R1〜R5の少なくとも1個は水酸基であり、そしてlは、第1のモノマー単位の組成比を表す)、及び(又は)次式(B)により表される第2のモノマー単位:【化2】(上式において、Rは前記定義に同じであり、R6〜R10は、それぞれ、同一もしくは異なっていてもよく、水素原子、水酸基、-O-t-ブトキシカルボニル基又は1〜4個の炭素原子を有するアルキル基を表し、但し、R6〜R10の少なくとも1個は水酸基又は-O-t-ブトキシカルボニル基であり、そしてmは、第2のモノマー単位の組成比を表す)、及び次式(C)により表される第3のモノマー単位:【化3】(上式において、Rは前記定義に同じであり、RI は、1〜4個の炭素原子を有するアルキル基を表し、Adは、式中のカルボキシル基に対して酸解離性保護基として作用する置換もしくは非置換のアダマンチル環を完成するのに必要な複数個の原子を表し、そしてnは、第3のモノマー単位の組成比を表す)から構成される1000〜150000の重量平均分子量を有している酸感応性共重合体(ここで、n/(l+m+n)=0.05〜0.55である)と、結像用放射線を吸収して分解すると前記酸感応性共重合体の第3のモノマー単位のカルボキシル基の保護基の脱離を惹起し得る酸を発生可能である光酸発生剤と、前記酸感応性共重合体及び前記光酸発生剤の溶媒とを含んでなることを特徴とする、化学増幅型レジスト組成物。
IPC (2件)：
G03F 7/039 601
, H01L 21/027
G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA09
, 2H025AB16
, 2H025AC01
, 2H025AC04
, 2H025AC05
, 2H025AC06
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BG00
, 2H025CB14
, 2H025CB16
, 2H025CB41
, 2H025CB45
, 2H025CB55
, 2H025CC03
, 2H025FA12
, 2H025FA17
