特許
J-GLOBAL ID：200903016361265164
レジスト組成物、レジストパターンの形成方法及び半導体装置の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石田 敬 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-288524
公開番号（公開出願番号）：特開平10-133377
出願日： 1996年10月30日
公開日（公表日）： 1998年05月22日
要約：
【要約】【課題】 短波長領域で露光可能な透明性、感度、解像性、そしてドライエッチング耐性を兼ね備えるとともに、基板に対する密着力に優れたレジストパターンを形成できるレジスト組成物の提供。【解決手段】 化学増幅型のレジスト組成物において、自体塩基性水溶液に不溶な重合体であって、(A)特定の保護基で保護されたカルボン酸あるいはフェノールを有するモノマー単位I及び(B)環状カーボネート部分を含むエステル基又はエーテル基を有するモノマー単位IIを含みかつ、前記モノマー単位Iの保護基が酸の作用により脱離した時、塩基性水溶液に可溶性となり得る重合体からなる基材樹脂と、結像用放射線を吸収して分解すると前記モノマー単位Iの保護基の脱離を惹起し得る酸を発生可能である光酸発生剤とを組み合わせて含んでなるように構成する。
請求項（抜粋）：
自体塩基性水溶液に不溶な重合体であって、(A)エステル基、エーテル基、アセタール基及びケタール基からなる群から選ばれた酸で脱離可能な保護基で保護されたカルボン酸あるいはフェノールを有するモノマー単位I及び(B)環状カーボネート部分を含むエステル基又はエーテル基を有するモノマー単位IIを少なくともその構造中に含みかつ、前記モノマー単位Iの保護基が酸の作用により脱離した時、塩基性水溶液に可溶性となり得る重合体からなる基材樹脂と、結像用放射線を吸収して分解すると前記モノマー単位Iの保護基の脱離を惹起し得る酸を発生可能である光酸発生剤とを組み合わせて含んでなることを特徴とする、塩基性水溶液で現像可能なレジスト組成物。
IPC (6件)：
G03F 7/039 601
, G03F 7/039 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/40 521
, H01L 21/027
, H01L 21/3065
G03F 7/039 601
, G03F 7/039 501
, G03F 7/004 503 A
, G03F 7/40 521
, H01L 21/30 502 R
, H01L 21/30 569 F
, H01L 21/302 H
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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