特許
J-GLOBAL ID：200903045649236061
水処理制御システム及び水処理制御方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (8件)：
鈴江 武彦
, 河野 哲
, 中村 誠
, 蔵田 昌俊
, 峰 隆司
, 福原 淑弘
, 村松 貞男
, 橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-014220
公開番号（公開出願番号）：特開2006-198544
出願日： 2005年01月21日
公開日（公表日）： 2006年08月03日
要約：
【課題】オゾン処理を使用する水処理システムにおいて、オゾンガスの注入率を最適化できる水処理制御システムを提供することにある。【解決手段】オゾン処理を制御する水処理制御システムにおいて、処理槽1に導入された被処理水10の蛍光強度を測定する蛍光分析計8及び水処理制御装置7が設けられている。水処理制御装置7は、蛍光分析計8により測定された蛍光強度を使用して蛍光強度残存率を算出し、当該蛍光強度残存率と前記オゾンガスのオゾン消費効率との関係に基づいて、設定された目標の蛍光強度残存率に対応する目標のオゾン消費効率を算出する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
処理対象となる被処理水を導入して収容し、処理された処理水を排出する処理槽と、
前記処理槽にオゾンガスを注入する注入装置と、
前記被処理水の蛍光強度を測定する蛍光強度測定手段と、
前記蛍光強度測定手段により測定された蛍光強度を使用して蛍光強度残存率を算出し、当該蛍光強度残存率と前記オゾンガスのオゾン消費効率との関係に基づいて、設定された目標の蛍光強度残存率に対応する目標のオゾン消費効率を算出する算出手段と、
前記算出手段により算出された前記目標のオゾン消費効率に従って、前記注入装置からオゾンガスを注入するときのオゾン注入量を制御する制御手段と
を具備したことを特徴とする水処理制御システム。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (14件)：
2G043AA01
, 2G043CA03
, 2G043EA01
, 2G043KA02
, 2G043KA03
, 2G043KA05
, 2G043NA01
, 4D050AA01
, 4D050AA12
, 4D050AB17
, 4D050BB02
, 4D050BD03
, 4D050BD08
, 4D050CA17
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (1件)
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オゾン注入制御方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願平11-258430
出願人：株式会社日立製作所
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