特許
J-GLOBAL ID:200903045682736991

半導体レーザ装置及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 外川 英明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-069820
公開番号(公開出願番号):特開2001-257413
出願日: 2000年03月14日
公開日(公表日): 2001年09月21日
要約:
【要約】【課題】モノリシック構造の二波長半導体レーザ装置において、所望の反射率を有し一括形成の可能な端面膜を提供すると共に、信頼性が高く所要の性能を満たし、かつ生産性の高い二波長半導体レーザ装置を提供することを目的とする。【解決手段】モノリシック構造の二波長半導体レーザ装置において、共振器前端面18には前端面膜19を有し、共振器後端面21には多層膜からなる高反射端面膜22を有している。前端面膜19は低屈折率材料を用いて反射率20%となるように膜厚を設定している。また、高反射端面膜22は低屈折率材料及び高屈折率材料の薄膜を交互に積層し、反射率80%になるように膜厚を設定している。両端面膜の膜厚は両半導体レーザダイオードの発振波長の平均値λm=(λ1+λ2)/2を用いて光学長d=(1/4+j)xλmより算出している。
請求項(抜粋):
基板と、前記基板上に形成された第一の波長のレーザ光を発振する第一のレーザ素子部と、前記基板上に形成された第二の波長のレーザ光を発振する第二のレーザ素子部と、前記第一のレーザ素子部の前端面及び、前記第二のレーザ素子部の前端面に一括形成された同一膜厚の前端面膜と、前記第一のレーザ素子部の後端面及び、前記第二のレーザ素子部の後端面に一括形成された同一膜厚の複数の薄膜からなる後端面膜と、を具備し、前記前端面膜の膜厚及び前記後端面膜の複数の薄膜は、前記第一の波長及び前記第二の波長の平均波長λに対する光学長d=(1/4+j)xλ(j=0,1,2・・)であることを特徴とする半導体レーザ装置。
IPC (5件):
H01S 5/028 ,  H01S 5/026 ,  H01S 5/22 610 ,  H01S 5/227 ,  H01S 5/343
FI (5件):
H01S 5/028 ,  H01S 5/026 ,  H01S 5/22 610 ,  H01S 5/227 ,  H01S 5/343
Fターム (11件):
5F073AA13 ,  5F073AA45 ,  5F073AA53 ,  5F073AA74 ,  5F073AA83 ,  5F073AB06 ,  5F073BA05 ,  5F073CA05 ,  5F073CA14 ,  5F073DA33 ,  5F073DA35
引用特許:
審査官引用 (4件)
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