特許
J-GLOBAL ID：200903045790406310
光導波路形成材料及び光導波路の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小島 隆司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-029516
公開番号（公開出願番号）：特開2003-227949
出願日： 2002年02月06日
公開日（公表日）： 2003年08月15日
要約：
【要約】【解決手段】 (A)平均組成式(1):【化1】(R<SP>1</SP>は水素原子又はメチル基、R<SP>2</SP>はC1〜8のアルキル基又はC2〜8のアルケニル基、Phはフェニル基、R<SP>3</SP>は水素原子又はC1〜4のアルキル基。0.05≦a≦0.9、0.1≦b≦0.9、0≦c≦0.2、0<d≦0.5、かつ0.8≦a+b+c+d≦1.5、nは2〜5である。)で表され、重量平均分子量1,000〜100,000の(メタ)アクリロイルオキシル基含有オルガノポリシロキサン、(B)光増感剤を含有してなる光硬化性オルガノポリシロキサン組成物から成る光導波路形成材料、及びこれを用いた光導波路の製造方法。【効果】 上記光導波路形成材料は、製造容易で、原料コストも低く、基体上に塗布後、未硬化の状態で粘着性が少なく、感度及び解像性、耐熱性、耐湿性、接着性に優れた被膜を与え、屈折率調整も容易である。上記方法によれば、光導波路を工業的に有利に製造できる。
請求項（抜粋）：
(A)下記平均組成式(1):【化1】(式中、R<SP>1</SP>は水素原子又はメチル基、R<SP>2</SP>は炭素原子数1〜8のアルキル基又は炭素原子数2〜8のアルケニル基、Phはフェニル基、R<SP>3</SP>は水素原子又は炭素原子数1〜4の非置換又はアルコキシ置換のアルキル基を示す。aは0.05≦a≦0.9、bは0.1≦b≦0.9、cは0≦c≦0.2、dは0<d≦0.5、かつ0.8≦a+b+c+d≦1.5をそれぞれ満足する数であり、nは2〜5の整数である。)で表され、重量平均分子量が1,000〜100,000(GPCによるポリスチレン換算値)である(メタ)アクリロイルオキシ基含有オルガノポリシロキサン(B)光増感剤を含有する光硬化性オルガノポリシロキサン組成物からなることを特徴とする光導波路形成材料。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (14件)：
2H047PA02
, 2H047PA15
, 2H047PA24
, 2H047PA28
, 2H047QA05
, 2H047TA41
, 4J035BA01
, 4J035BA11
, 4J035CA041
, 4J035CA051
, 4J035CA061
, 4J035CA101
, 4J035CA131
, 4J035EB01
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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