特許
J-GLOBAL ID：200903045935717174

格子干渉型変位測定装置

発明者：
大崎 基弘

大崎 基弘 について

, 
富谷 雅樹

富谷 雅樹 について


出願人/特許権者：
株式会社ミツトヨ

株式会社ミツトヨ について


代理人 (1件)： 高矢 諭 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-048396
公開番号（公開出願番号）：特開2003-247867
出願日： 2002年02月25日
公開日（公表日）： 2003年09月05日
要約：
【要約】【課題】 ピッチ角のずれが信号強度に影響を及ぼし難く、且つ、良好な信号を得られる装置を開発することにより、機器類への簡単な取付けを実現し、装置の使い勝手を向上させる。【解決手段】 複数の光線のスケール10への入射位置10A、10B又はスケール格子12B上の回折点を、スケール格子上での光線径より離すと共に、各光線のスケールへの入射角度θと回折光の出射角度φをほぼ同一とする。
請求項（抜粋）：
可干渉光源からの光線を複数の方向からスケールへ入射させ、それぞれの回折光同士を干渉させて検出信号を得るようにした格子干渉型変位測定装置において、複数の光線のスケール格子への入射位置を、該スケール格子上での光線径より離すと共に、各光線のスケールへの入射角度と回折光の出射角度をほぼ同一としたことを特徴とする格子干渉型変位測定装置。
IPC (2件)：
G01D 5/38 ,  G01D 5/36
FI (2件)：
G01D 5/38 A ,  G01D 5/36 T
Fターム (16件)：
2F103BA27 ,  2F103CA02 ,  2F103CA04 ,  2F103CA08 ,  2F103DA01 ,  2F103DA12 ,  2F103EA15 ,  2F103EB02 ,  2F103EB08 ,  2F103EB16 ,  2F103EB33 ,  2F103EC03 ,  2F103EC12 ,  2F103EC13 ,  2F103EC14 ,  2F103EC15
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 光学式変位測定装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-234547   出願人：ソニー・プレシジョン・テクノロジー株式会社
  • 相対位置検出装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-081976   出願人：株式会社リコー
  • ロータリーエンコーダ
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-247589   出願人：キヤノン株式会社

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