特許
J-GLOBAL ID:200903046048086786

3次元形状計測装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 長谷川 芳樹 ,  寺崎 史朗 ,  石田 悟
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-413340
公開番号(公開出願番号):特開2005-172622
出願日: 2003年12月11日
公開日(公表日): 2005年06月30日
要約:
【課題】 汎用的な3次元形状計測に適し、かつ、高分解能を実現することを可能とした3次元形状計測装置を提供する。【解決手段】 対象物6の表面上に照射光源部5からパターン光像を投影し、投影パターン光像を撮像部1により撮像して画像位置演算部2、形状算出部3で画像処理により投影されたパターンの画像中での位置を求め、照射光源部5と撮像部1の位置関係により三角測量法により投影パターンの空間位置=対象物6の表面形状を求める。求めた表面形状に応じて照射光制御部5が照射光源部5により投影するパターン光像のパターンを調整することで多種の対象物6に対して精度よく測定を行うことができる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
測定対象物の3次元形状を非接触で測定する3次元形状計測装置であって、 所定のパターン光像を測定対象物に照射してその表面に投影する照射光源部と、 複数の受光素子から構成され、照射されたパターン光像によって測定対象物表面に投影された投影パターン光像を撮像する撮像部と、 前記撮像部の出力画像から、画像中の投影パターン光像の位置を求める画像位置演算部と、 求めた投影パターン光像の位置情報と、撮像時の撮像部と照射光源部との位置関係情報を基にして対象物体の形状を求める形状算出部と、 前記形状算出部の算出結果に応じて前記照射光源部により照射するパターン光を調整する照射光制御部と、 を備えていることを特徴とする3次元形状計測装置。
IPC (4件):
G01B11/25 ,  G01B11/24 ,  G06T1/00 ,  G06T7/60
FI (4件):
G01B11/24 E ,  G06T1/00 315 ,  G06T7/60 150S ,  G01B11/24 K
Fターム (43件):
2F065AA53 ,  2F065BB05 ,  2F065DD02 ,  2F065DD06 ,  2F065FF01 ,  2F065FF07 ,  2F065FF09 ,  2F065GG06 ,  2F065GG12 ,  2F065GG15 ,  2F065HH04 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL00 ,  2F065LL04 ,  2F065LL10 ,  2F065LL46 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ14 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ41 ,  2F065UU05 ,  5B057AA19 ,  5B057BA02 ,  5B057BA19 ,  5B057DA07 ,  5B057DA08 ,  5B057DB02 ,  5B057DB09 ,  5B057DC02 ,  5B057DC04 ,  5B057DC06 ,  5B057DC09 ,  5B057DC22 ,  5L096AA06 ,  5L096BA02 ,  5L096CA02 ,  5L096DA02 ,  5L096FA55 ,  5L096FA59 ,  5L096FA60 ,  5L096FA62 ,  5L096FA67
引用特許:
出願人引用 (2件)
  • 三次元形状測定装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2000-315210   出願人:住友大阪セメント株式会社
  • 三次元形状測定装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2000-315211   出願人:住友大阪セメント株式会社
審査官引用 (5件)
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