両面同時成膜方法および装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：臼村文男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-143222
公開番号（公開出願番号）：特開平10-317136
出願日： 1997年05月16日
公開日（公表日）： 1998年12月02日
要約：

【要約】【課題】複雑な反転機構を必要とすることなく、眼鏡レンズの両面に反射防止膜等の薄膜を形成する。【解決手段】スパッタにより、眼鏡レンズの両面に同時に成膜する方法であって、眼鏡レンズを平板状の基板ホルダー31に搭載して真空処理室11内に導入し、該真空処理室内において、以下の(i)スパッタ工程と(ii)変換工程とを繰り返すことにより、所望の膜厚の金属化合物薄膜を眼鏡レンズの両面に同時に形成する両面同時成膜方法。(i)眼鏡レンズの両面側に設けられたスパッタ装置41を用いてターゲットを眼鏡レンズにスパッタし、眼鏡レンズの両面にそれぞれ金属ないしは金属の不完全反応物からなる金属系超薄膜を形成するスパッタ工程。(ii)金属系超薄膜と反応性ガスとを反応せしめて金属化合物の超薄膜に変換せしめる変換工程61。

請求項（抜粋）：

スパッタにより、眼鏡レンズの両面に同時に成膜する方法であって、眼鏡レンズを平板状の基板ホルダーに搭載して真空処理室内に導入し、該真空処理室内において、以下の(i)スパッタ工程と(ii)変換工程とを繰り返すことにより、所望の膜厚の金属化合物薄膜を眼鏡レンズの両面に同時に形成することを特徴とする両面同時成膜方法。(i)眼鏡レンズの両面側に設けられたスパッタ装置を用いてターゲットを眼鏡レンズにスパッタし、眼鏡レンズの両面にそれぞれ金属ないしは金属の不完全反応物からなる金属系超薄膜を形成するスパッタ工程(ii)金属系超薄膜と反応性ガスとを反応せしめて金属化合物の超薄膜に変換せしめる変換工程

引用特許：

審査官引用 (11件)

特公平8-019518
特公平8-019518
特公昭47-018645

全件表示

前のページに戻る