特許
J-GLOBAL ID：200903046147597440

環状化合物、並びにそれからなるフォトレジスト基材及び組成物

発明者：
大和田 貴紀

大和田 貴紀 について


出願人/特許権者：
出光興産株式会社

出光興産株式会社 について


代理人 (1件)： 渡辺 喜平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-019687
公開番号（公開出願番号）：特開2007-197389
出願日： 2006年01月27日
公開日（公表日）： 2007年08月09日
要約：
【課題】塗布溶媒溶解性に優れ、高感度、高解像度、高微細加工性等の特徴を具備するフォトレジスト基材及び組成物を提供する。【解決手段】一般式(1)で表される環状化合物。〔式中、nはそれぞれ3又は4の整数を表す。Rは水素又は酸解離性溶解抑止基を表す。R’は直鎖状脂肪族炭化水素基、分岐を有する脂肪族炭化水素基、フェニル基、p-フェニルフェニル基、p-tert-ブチルフェニル基、芳香族基、又はこれら置換基のうち2種以上を組み合わせて構成される置換基を表す。〕【選択図】なし
請求項（抜粋）：
一般式(1)で表される環状化合物。
IPC (3件)：
C07C 69/734 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
C07C69/734 Z ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (15件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB78 ,  4H006AB92
引用特許：
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (8件)
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