特許

J-GLOBAL ID：200903099286777157

新規なスルホニルジアゾメタン化合物

発明者： 佐藤 和史 ,  新田 和行 ,  島巻 利治 ,  庫本 伸哉
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社 ,  ダイトーケミックス株式会社
代理人 (1件)： 阿形 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-198953
公開番号（公開出願番号）：特開平11-035551
出願日： 1997年07月24日
公開日（公表日）： 1999年02月09日
要約：

【要約】【課題】 化学増幅型レジストの酸発生剤として用いた場合、露光部と未露光部のコントラストに優れ、十分な感度を示す新規なスルホニルジアゾメタン化合物を提供する。【解決手段】 一般式【化1】(R1は低級アルキレン基、R2は第三アルキル基)で表わされるスルホニルジアゾメタン化合物とする。

請求項（抜粋）：

一般式【化1】(式中のR1は低級アルキレン基、R2は第三アルキル基である)で表わされるスルホニルジアゾメタン化合物。

IPC (2件)：

C07C381/14 ,  G03F 7/004 503

FI (2件)：

C07C381/14 ,  G03F 7/004 503 A

引用特許：

審査官引用 (6件)

• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-286168   出願人：東京応化工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-094443   出願人：東京応化工業株式会社
• 特開平2-106751
  
• 特開平2-118655
  
• 感放射線性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-189479   出願人：三菱化学株式会社
• 化学増幅型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-198979   出願人：東京応化工業株式会社