特許
J-GLOBAL ID：200903046189901130

縦型熱処理装置

発明者：
齋藤 幸正

齋藤 幸正 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 金坂 憲幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-184310
公開番号（公開出願番号）：特開2002-009009
出願日： 2000年06月20日
公開日（公表日）： 2002年01月11日
要約：
【要約】【課題】 装置高さを低くすることができると共に、ガス導入部の強度の向上、処理容器の構造の簡素化やプロセス性能の向上等が図れる装置高さを縦型熱処理装置を提供する。【解決手段】 下端が開口されその開口4周縁部にフランジ5を有する処理容器3内に被処理体wを収容し、該処理容器3の開口4を開閉可能な蓋体24により密閉して被処理体wに所定の熱処理を施す縦型熱処理装置1において、前記処理容器3のフランジ5に処理容器3内に処理ガスを導入するガス導入部6を設けている。
請求項（抜粋）：
下端が開口されその開口周縁部にフランジを有する処理容器内に被処理体を収容し、該処理容器の開口を開閉可能な蓋体により密閉して被処理体に所定の熱処理を施す縦型熱処理装置において、前記処理容器のフランジに処理容器内に処理ガスを導入するガス導入部を設けたことを特徴とする縦型熱処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/22 511 ,  C23C 16/455 ,  H01L 21/205
FI (3件)：
H01L 21/22 511 S ,  C23C 16/455 ,  H01L 21/205
Fターム (14件)：
4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030EA06 ,  4K030KA04 ,  4K030KA05 ,  5F045BB08 ,  5F045DP19 ,  5F045DP28 ,  5F045DQ05 ,  5F045EC01 ,  5F045EC07 ,  5F045EF02 ,  5F045EF08 ,  5F045EF20
引用特許：
審査官引用 (8件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM