特許
J-GLOBAL ID:200903046217299859
排ガス処理装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
川北 武長
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-022070
公開番号(公開出願番号):特開2002-219335
出願日: 2001年01月30日
公開日(公表日): 2002年08月06日
要約:
【要約】【課題】有機化合物類、特に有害な芳香族炭化水素およびダイオキシン類、焼却飛灰等のばい塵類、重金属類、酸性ガス、窒素酸化物を総合的に処理でき、かつ長期間にわたってその性能を維持できる排ガス処理装置を提供する。【解決手段】焼却炉、溶融炉などの炉から排出される排ガスを冷却するガス冷却手段と、該ガス冷却手段により冷却された排ガス中の有害成分を除去する触媒担持バグフィルタと、前記ガス冷却手段および触媒担持フィルタを連通する排ガス煙道とを備えた排ガス処理装置において、前記排ガス煙道に排ガス除塵装置を設けるとともに、該排ガス除塵装置の前流の煙道に酸性ガス除去剤および吸着剤を供給する手段および該排ガス除塵装置の後流の煙道に還元剤を供給する手段を設けたことを特徴とする排ガス処理装置。
請求項(抜粋):
焼却炉、溶融炉などの炉から排出される排ガスを冷却するガス冷却手段と、該ガス冷却手段により冷却された排ガス中の有害成分を除去する触媒担持バグフィルタと、前記ガス冷却手段および触媒担持フィルタを連通する排ガス煙道とを備えた排ガス処理装置において、前記排ガス煙道に排ガス除塵装置を設けるとともに、該排ガス除塵装置の前流の煙道に酸性ガス除去剤および吸着剤を供給する手段および該排ガス除塵装置の後流の煙道に還元剤を供給する手段を設けたことを特徴とする排ガス処理装置。
IPC (5件):
B01D 53/86
, B01D 53/40
, B01D 53/64
, B01D 53/94
, B09B 3/00
FI (5件):
B01D 53/36 G
, B01D 53/34 118 Z
, B01D 53/34 136 Z
, B01D 53/36 101 A
, B09B 3/00 303 L
Fターム (33件):
4D002AA02
, 4D002AA19
, 4D002AA28
, 4D002AB01
, 4D002AC04
, 4D002AC10
, 4D002BA03
, 4D002BA04
, 4D002BA14
, 4D002CA13
, 4D002DA05
, 4D002DA12
, 4D002DA41
, 4D002DA45
, 4D002EA01
, 4D002FA03
, 4D004AA37
, 4D004AB03
, 4D004CA29
, 4D048AA06
, 4D048AA11
, 4D048AA17
, 4D048AC03
, 4D048AC04
, 4D048BC04
, 4D048CA07
, 4D048CC39
, 4D048CC41
, 4D048CC61
, 4D048CD01
, 4D048CD03
, 4D048CD05
, 4D048CD08
引用特許:
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