特許

J-GLOBAL ID：200903046351563090

液処理方法

発明者： 上川 裕二 ,  田中 裕司
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 中本 菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-212258
公開番号（公開出願番号）：特開2002-028588
出願日： 2000年07月13日
公開日（公表日）： 2002年01月29日
要約：

【要約】【課題】 処理効率の向上及び処理液の使用量の削減を図れるようにした液処理方法を提供すること。【解決手段】 スピンチャック1によって保持される半導体ウエハWに、薬液供給ノズル3aから薬液Lを吐出して半導体ウエハ表面に薬液Lを接触させる工程と、スピンチャック1及び半導体ウエハWを回転させつつ薬液供給ノズル3aから薬液Lを吐出して半導体ウエハ表面の薬液Lの流速を上げる工程と、スピンチャック1及び半導体ウエハWを回転させて処理に供した薬液Lを除去する薬液除去工程とを順次繰り返し行うことにより、半導体ウエハWの表面に付着するレジストやポリマ等を除去する。

請求項（抜粋）：

被処理基板の表面に処理液を供給する工程と、上記被処理基板の表面に接触する処理液の流速を上げる工程と、上記被処理基板の表面に接触する処理液を除去する工程と、を有し、上記各工程を順次繰り返し行うことを特徴とする液処理方法。

IPC (3件)：

B08B 3/04 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/306

FI (3件)：

B08B 3/04 A ,  H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/306 R

Fターム (21件)：

3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201AB34 ,  3B201BB21 ,  3B201BB82 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201BB95 ,  3B201CB11 ,  3B201CC01 ,  3B201CC13 ,  5F043BB30 ,  5F043CC12 ,  5F043CC16 ,  5F043DD10 ,  5F043DD12 ,  5F043DD30 ,  5F043EE07 ,  5F043EE08 ,  5F043GG10

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 液晶表示装置の製法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-302692   出願人：株式会社アドバンスト・ディスプレイ
• 基板洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-094985   出願人：ソニー株式会社
• 基板乾燥方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-255893   出願人：ソニー株式会社
• 回転式基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-347578   出願人：大日本スクリーン製造株式会社

審査官引用 (4件)

• 回転式基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-347578   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 液晶表示装置の製法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-302692   出願人：株式会社アドバンスト・ディスプレイ
• 基板洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-094985   出願人：ソニー株式会社
• 基板乾燥方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-255893   出願人：ソニー株式会社