特許
J-GLOBAL ID：200903046463027787

レーザを用いた成分分析方法

発明者：
出口 祥啓

出口 祥啓 について

, 
吉川 孝三

吉川 孝三 について


出願人/特許権者：
工業技術院長

工業技術院長 について


代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-175665
公開番号（公開出願番号）：特開2001-349832
出願日： 2000年06月12日
公開日（公表日）： 2001年12月21日
要約：
【要約】【課題】 ガス中に含まれる成分の濃度を高感度かつ安定に計測することができるレーザを用いた成分分析方法を提供する。【解決手段】 レーザ光を測定対象物に照射し、測定対象物に含まれる成分をプラズマ化させ、そのプラズマ光を分光することにより、測定対象物中の成分を検出するレーザを用いた成分分析方法において、各成分元素からの発光ラインに関し、発光に起因する上位エネルギ準位に対応した遅れ時間および計測時間をそれぞれ設定し、設定した遅れ時間および計測時間と測定対象物に含まれる複数の成分原子の比とを用いて、測定対象物中の各成分の濃度をそれぞれ計測する。
請求項（抜粋）：
レーザ光を測定対象物に照射し、測定対象物に含まれる成分をプラズマ化させ、そのプラズマ光を分光することにより、測定対象物中の成分を検出するレーザを用いた成分分析方法において、各成分元素からの発光ラインに関し、発光に起因する上位エネルギ準位に対応した遅れ時間および計測時間をそれぞれ設定し、設定した遅れ時間および計測時間と測定対象物に含まれる複数の成分原子の比とを用いて、測定対象物中の各成分の濃度をそれぞれ計測することを特徴とするレーザを用いた成分分析方法。
IPC (2件)：
G01N 21/63 ,  G01N 21/71
FI (2件)：
G01N 21/63 Z ,  G01N 21/71
Fターム (15件)：
2G043AA01 ,  2G043BA07 ,  2G043CA01 ,  2G043DA05 ,  2G043EA10 ,  2G043FA03 ,  2G043GA08 ,  2G043GB21 ,  2G043HA01 ,  2G043HA02 ,  2G043JA01 ,  2G043KA09 ,  2G043LA03 ,  2G043NA01 ,  2G043NA06
引用特許：
審査官引用 (3件)

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