特許
J-GLOBAL ID：200903046502063141
位相変調型ホログラムの作製方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-309517
公開番号（公開出願番号）：特開2005-077866
出願日： 2003年09月02日
公開日（公表日）： 2005年03月24日
要約：
【課題】位相変調型ホログラムの作製方法を提供する。【解決手段】(1)マスクパターンとして計算機合成ホログラムにより光線透過率の変化パターンを計算する工程、(2)計算されたマスクパターンからフォトマスクを作製する工程、および(3)当該フォトマスクを通過した光により屈折率変調型フォトポリマーを露光する工程とを含むことを特徴とする、実質的に凹凸による表面レリーフイメージを伴わない位相変調型ホログラムの作製方法。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
(1)マスクパターンとして計算機合成ホログラムにより光線透過率の変化パターンを計算する工程、(2)計算されたマスクパターンからフォトマスクを作製する工程、および(3)当該フォトマスクを通過した光により屈折率変調型フォトポリマーを露光する工程を含むことを特徴とする、実質的に凹凸による表面レリーフイメージを伴わない位相変調型ホログラムの作製方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (8件)：
2K008AA00
, 2K008AA01
, 2K008AA05
, 2K008BB01
, 2K008DD13
, 2K008FF17
, 2K008FF27
, 2K008HH25
出願人引用 (1件)
審査官引用 (6件)
全件表示
前のページに戻る
