特許
J-GLOBAL ID：200903046506815407

ネガ型レジスト組成物

発明者：
阿出川 豊

阿出川 豊 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  栗宇 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-262880
公開番号（公開出願番号）：特開2004-101819
出願日： 2002年09月09日
公開日（公表日）： 2004年04月02日
要約：
【課題】半導体素子の微細加工における性能向上及び技術の課題を解決することであり、電子線又はEUVの照射によるパターン形成において、高い感度及び解像度とともに、レジスト液の保存安定性及び引き置き経時安定性に優れたネガ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)電子線又はEUVの照射により酸を発生する化合物、及び、(C)水酸基又は保護された水酸基を有する特定の基を有する化合物を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(A)アルカリ可溶性樹脂、 (B)電子線又はEUVの照射により酸を発生する化合物、及び、 (C)一般式(I)〜(III)のいずれかで表される基を有する化合物を少なくとも1種含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F7/038 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027
FI (4件)：
G03F7/038 601 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R
Fターム (12件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025CB52 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17
引用特許：
審査官引用 (5件)
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