特許
J-GLOBAL ID：200903046639363568

基板保持装置、基板処理装置および基板処理方法

発明者：
中村 彰彦

中村 彰彦 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人原謙三国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-224038
公開番号（公開出願番号）：特開2009-059778
出願日： 2007年08月30日
公開日（公表日）： 2009年03月19日
要約：
【課題】互いに異なる耐熱性を有する部材からなる処理対象を保持する基板保持装置、該基板保持装置をステージとした基板処理装置であって、基板からサポートプレートを剥離する基板処理装置および基板処理方法を提供する。【解決手段】本発明にかかる基板保持装置10は、その外縁部分が基板1の外縁よりも外側にはみ出るように形成されている貼着体4aに貼着された基板1を保持する基板保持装置12であって、内周部12aと、内周部12aの外周に位置する外周部12bと、を備え、内周部12aの温度および外周部12bの温度を互いに独立して制御する温度制御手段を備えている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
その外縁部分が基板の外縁よりも外側にはみ出るように形成されている貼着体に貼着された基板を保持する基板保持装置であって、 内周部と、 前記内周部の外周に位置する外周部と、を備え、前記内周部の温度および前記外周部の温度を互いに独立して制御する温度制御手段をさらに備えていることを特徴とする基板保持装置。
IPC (1件)：
H01L 21/683
FI (1件)：
H01L21/68 N
Fターム (13件)：
5F031CA02 ,  5F031DA15 ,  5F031FA01 ,  5F031FA07 ,  5F031HA02 ,  5F031HA10 ,  5F031HA37 ,  5F031HA38 ,  5F031HA78 ,  5F031MA34 ,  5F031MA37 ,  5F031MA38 ,  5F031NA04
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM