特許
J-GLOBAL ID:200903091926478541
基板載置ステージ及び基板の吸着・剥離方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
小山 有
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-252361
公開番号(公開出願番号):特開2006-068592
出願日: 2004年08月31日
公開日(公表日): 2006年03月16日
要約:
【課題】 ガラス基板などをエアを介在することなく水平に固定でき、しかも容易に剥離できる基板載置ステージを提供する。【解決手段】 基板載置ステージ1は平面視で複数の同心状領域1a,1b,1c,1d,1eに分けられ、最中心部の領域1aに形成した吸引件噴出孔2...の密度を外側の領域1b〜1eの密度よりも高くしている。前記各孔2には吸引兼噴出用ノズル4が挿入され、このノズル4は基板載置ステージ1の背面側において配管に接続されている。各配管は図示しない切替弁を介して真空ポンプ或いはエアーラインに選択的につながっている。本発明では各領域毎に配管を配置し、各領域毎に吸引または噴出を制御できるようにしている。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
ガラス基板などの基板を載置固定する基板載置ステージにおいて、この基板載置ステージ上面には多数の真空源につながる吸引孔及び圧気源につながる噴出孔が形成され、また基板載置ステージは平面視で複数の同心状領域に分けられ、これら各領域毎に前記吸引孔を介した吸引及び噴出孔を介した噴出が独立して行なわれることを特徴とする基板載置ステージ。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (5件):
4F042AA02
, 4F042AA06
, 4F042AA10
, 4F042DF09
, 4F042DF11
引用特許:
出願人引用 (2件)
審査官引用 (21件)
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基板処理装置および基板処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-314209
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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基板吸着保持装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-110644
出願人:日本電気株式会社
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特開平3-282472
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