特許
J-GLOBAL ID：200903046865354660

有機電子素子の製造方法および製造装置

発明者：
須貝 浩士

須貝 浩士 について

, 
金井 正博

金井 正博 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (2件)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-057445
公開番号（公開出願番号）：特開2005-332803
出願日： 2005年03月02日
公開日（公表日）： 2005年12月02日
要約：
【課題】 高品質の有機EL素子を効率的に製造する方法および装置を提供する。【解決手段】 上部電極形成工程における基板の被処理面は下向きに保持され、パッシベーション層形成工程における前記基板の被処理面は上向きに保持される。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板に配置されている下部電極に有機導電層を形成する有機導電層形成工程と、前記有機導電層形成工程の後に上部電極を形成する上部電極形成工程と、前記上部電極形成工程の後にパッシベーション層を形成するパッシベーション層形成工程とを有する有機電子素子の製造方法において、 前記上部電極形成工程における前記基板の被処理面は下向きに保持され、 前記パッシベーション層形成工程における前記基板の被処理面は上向きに保持されることを特徴とする有機電子素子の製造方法。
IPC (3件)：
H05B33/10 ,  H05B33/04 ,  H05B33/14
FI (3件)：
H05B33/10 ,  H05B33/04 ,  H05B33/14 A
Fターム (7件)：
3K007AB08 ,  3K007AB11 ,  3K007AB18 ,  3K007BB02 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  3K007FA02
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (3件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM