特許
J-GLOBAL ID:200903046909638777
半導体装置およびその製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
井上 一 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-112221
公開番号(公開出願番号):特開2001-298192
出願日: 2000年04月13日
公開日(公表日): 2001年10月26日
要約:
【要約】【課題】 高い電流駆動能力を備え、かつ歩留まりが高い半導体装置およびその製造方法を提供する。【解決手段】 半導体装置1000は、NMOSFET100Aと、PMOSFET100Bとを有する。各MOSFETは、SOI基板1のシリコン層1aに形成された、ソース領域およびドレイン領域を構成する第1および第2の不純物拡散層8a,8bと、第1および第2の不純物拡散層8a,8bの間に形成されたチャネル領域7と、少なくともチャネル領域7上に形成されたゲート絶縁層2と、ゲート絶縁層2上に形成されたゲート電極3と、を有する。ゲート電極3は、少なくともゲート絶縁層2に接する領域に窒化タンタル層4を有する。
請求項(抜粋):
半導体層に形成された、ソース領域およびドレイン領域を構成する第1および第2の不純物拡散層と、前記第1および第2の不純物拡散層の間に形成されたチャネル領域と、少なくとも前記チャネル領域上に形成されたゲート絶縁層と、前記ゲート絶縁層上に形成されたゲート電極と、を含み、前記ゲート電極は、少なくとも前記ゲート絶縁層に接する領域に窒化タンタル層を有する、半導体装置。
IPC (6件):
H01L 29/786
, H01L 21/8238
, H01L 27/092
, H01L 27/08 331
, H01L 29/43
, H01L 29/78
FI (7件):
H01L 27/08 331 E
, H01L 29/78 617 L
, H01L 27/08 321 D
, H01L 29/46 R
, H01L 29/78 301 G
, H01L 29/78 613 A
, H01L 29/78 617 M
Fターム (78件):
4M104AA01
, 4M104AA09
, 4M104BB13
, 4M104BB20
, 4M104BB21
, 4M104BB25
, 4M104BB32
, 4M104BB36
, 4M104BB37
, 4M104BB38
, 4M104CC05
, 4M104DD04
, 4M104DD26
, 4M104DD37
, 4M104DD41
, 4M104DD64
, 4M104DD65
, 4M104DD78
, 4M104DD84
, 4M104EE09
, 4M104FF13
, 4M104GG09
, 4M104GG10
, 4M104HH16
, 5F040DA21
, 5F040DB03
, 5F040DC01
, 5F040EC02
, 5F040EC04
, 5F040EH02
, 5F040EK05
, 5F040FA05
, 5F040FC11
, 5F048AA08
, 5F048AC04
, 5F048BA16
, 5F048BB05
, 5F048BB08
, 5F048BB09
, 5F048BB13
, 5F048BB14
, 5F048DA25
, 5F110AA03
, 5F110AA07
, 5F110AA08
, 5F110AA26
, 5F110AA30
, 5F110BB04
, 5F110CC02
, 5F110DD05
, 5F110DD13
, 5F110DD21
, 5F110EE01
, 5F110EE04
, 5F110EE05
, 5F110EE08
, 5F110EE11
, 5F110EE15
, 5F110EE32
, 5F110EE44
, 5F110EE50
, 5F110FF02
, 5F110GG02
, 5F110GG06
, 5F110GG12
, 5F110GG17
, 5F110GG25
, 5F110GG28
, 5F110HJ01
, 5F110HJ04
, 5F110HJ13
, 5F110HJ23
, 5F110HK05
, 5F110HK40
, 5F110HM14
, 5F110NN62
, 5F110QQ11
, 5F110QQ30
引用特許:
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