特許
J-GLOBAL ID：200903046948218297

廃水処理装置

発明者：
浦上 逸男

浦上 逸男 について

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古屋 政彦

古屋 政彦 について

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鏑木 毅

鏑木 毅 について

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林田 貴志

林田 貴志 について

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石田 宏司

石田 宏司 について


出願人/特許権者：
千代田工販株式会社

千代田工販株式会社 について


代理人 (2件)： 吉岡 宏嗣 ,  鵜沼 辰之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-148650
公開番号（公開出願番号）：特開2005-329301
出願日： 2004年05月19日
公開日（公表日）： 2005年12月02日
要約：
【課題】 薬剤等を供給せずにバチルス属細菌を優勢種とする廃水処理装置。【解決手段】 被処理水をバチルス属細菌等を含む活性汚泥で処理する浄化処理手段3、浄化処理された処理水から活性汚泥を分離する分離手段5、収容鉱物などに流体が接触する接触手段17、及び酸化剤供給部19を備え、接触手段は、浄化処理手段に流入する前の被処理水の流路、分離手段を経た処理水が浄化処理手段に流入する前の被処理水中及び浄化処理手段の少なくとも一方に返送する流路、または、分離手段で分離された活性汚泥が浄化処理手段に流入する前の被処理水中及び浄化処理手段の少なくとも一方に返送する流路に設けられ、酸化剤供給部は、接触手段または接触手段が設けられた流路の接触手段よりも上流側に酸化剤を供給し、接触手段に収容された鉱物などは流体にMgイオン及びケイ酸イオンを供給すると共に、酸化剤からヒドロキシラジカルを生じる反応を触媒する構成とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
被処理水をグラム陰性菌及びバチルス属細菌を含む活性汚泥で浄化処理する浄化処理手段と、該浄化処理手段で処理した処理水から活性汚泥を分離する分離手段と、鉱物または該鉱物を加工した加工物を収容して該鉱物または該加工物に流体が接触する接触手段と、酸化剤を供給する酸化剤供給部とを備え、 前記接触手段は、前記浄化処理手段に流入する前の被処理水が通流する流路、前記分離手段で分離された処理水を前記浄化処理手段に流入する前の被処理水中及び前記浄化処理手段の少なくとも一方に返送する流路、または、前記分離手段で分離された活性汚泥を前記浄化処理手段に流入する前の被処理水中及び前記浄化処理手段の少なくとも一方に返送する流路に設けられ、 前記酸化剤供給部は、前記接触手段または前記接触手段が設けられた流路の該接触手段よりも上流側に酸化剤を供給し、 前記接触手段に収容された前記鉱物または前記加工物は、該鉱物または該加工物に接触した流体にマグネシウムイオン及びケイ酸イオンを供給すると共に、前記酸化剤供給部から供給された酸化剤からヒドロキシラジカルを生じる反応を触媒してなる水処理装置。
IPC (5件)：
C02F3/12 ,  C02F1/72 ,  C02F3/34 ,  C02F11/00 ,  C02F11/02
FI (7件)：
C02F3/12 D ,  C02F3/12 N ,  C02F3/12 S ,  C02F1/72 Z ,  C02F3/34 Z ,  C02F11/00 Z ,  C02F11/02
Fターム (32件)：
4D028AC03 ,  4D028AC09 ,  4D028BC01 ,  4D028BC19 ,  4D028BD08 ,  4D028BD11 ,  4D028BE04 ,  4D028BE08 ,  4D040DD03 ,  4D040DD11 ,  4D040DD14 ,  4D040DD18 ,  4D050AA15 ,  4D050AA16 ,  4D050AB06 ,  4D050AB12 ,  4D050BB02 ,  4D050BB06 ,  4D050BB09 ,  4D050BC04 ,  4D050BD02 ,  4D050BD06 ,  4D050CA14 ,  4D050CA17 ,  4D059AA05 ,  4D059BA32 ,  4D059BK13 ,  4D059CA28 ,  4D059DA43 ,  4D059DA44 ,  4D059DA45 ,  4D059DA70
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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