加熱装置及び真空処理装置

発明者： , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石島茂男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-085812
公開番号（公開出願番号）：特開2001-271178
出願日： 2000年03月27日
公開日（公表日）： 2001年10月02日
要約：

【要約】【課題】真空処理装置内で基板を加熱するヒータの寿命を長くする技術を提供する。【解決手段】本発明の加熱装置18は、加熱装置の本体を構成する二枚のカーボン材からなる板状体53、54と、その間に配置されたシースヒータ55とを有しており、板状体53、54の全表面には、アルミニウム膜61が下地膜として成膜され、そのアルミニウム膜61上にアルミナ膜62が成膜されている。このように、下地膜としてアルミナ膜62との密着性が良好なアルミニウム膜61が成膜されていることにより、従来に比してアルミナ膜62の密着力や破断強度が向上して剥離しにくくなる。これにより、板状体53、54が長期間露出せず、クリーニングガスプラズマに直接曝されなくなる。従って、板状体53、54が腐食しにくくなるので、加熱装置18の寿命が長くなる。

請求項（抜粋）：

カーボン材で構成された加熱装置本体と、前記加熱装置本体と密着した状態で、前記加熱装置本体内部に配置された発熱体とを有し、加熱装置本体の表面に基板を載置した状態で、前記基板を加熱できるように構成された加熱装置であって、前記加熱装置本体の表面に少なくとも形成されたアルミニウム膜と、前記アルミニウム膜の表面に形成されたアルミニウム酸化物又は窒化物の膜とを有することを特徴とする加熱装置。

IPC (6件)：

C23C 28/00 , C23C 16/46 , F27D 11/02 , H01L 21/205 , H05B 3/18 , H05B 3/20 335

FI (6件)：

C23C 28/00 B , C23C 16/46 , F27D 11/02 A , H01L 21/205 , H05B 3/18 , H05B 3/20 335

Fターム (58件)：

3K034AA02 , 3K034AA13 , 3K034AA14 , 3K034AA22 , 3K034BA04 , 3K034BA11 , 3K034BB08 , 3K034BB14 , 3K034BC05 , 3K034BC08 , 3K034BC15 , 3K034BC16 , 3K034GA03 , 3K034GA08 , 3K034HA01 , 3K034HA10 , 3K034JA02 , 3K092PP20 , 3K092QA05 , 3K092QB02 , 3K092QB27 , 3K092QB45 , 3K092RA01 , 3K092RB04 , 3K092RF03 , 3K092RF13 , 3K092RF25 , 3K092RF26 , 3K092TT06 , 3K092TT07 , 3K092TT26 , 3K092VV09 , 4K030KA23 , 4K030KA45 , 4K030KA47 , 4K044AA11 , 4K044AB02 , 4K044AB10 , 4K044BA10 , 4K044BA13 , 4K044BA18 , 4K044BB03 , 4K044BC02 , 4K044BC05 , 4K044BC11 , 4K044CA11 , 4K063AA05 , 4K063AA12 , 4K063BA12 , 4K063CA03 , 4K063FA04 , 4K063FA07 , 5F045AA08 , 5F045DP03 , 5F045DQ10 , 5F045EF05 , 5F045EK07 , 5F045EK08

引用特許：

審査官引用 (4件)

炭素材料の酸化防止被覆方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-225662 出願人：明智セラミックス株式会社
静電チャック部材
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-310892 出願人：トーカロ株式会社, 株式会社日立製作所
真空装置用ヒータプレート及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-347398 出願人：日本真空技術株式会社

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