特許
J-GLOBAL ID：200903047171356069

基板処理装置

発明者：
林 徳幸

林 徳幸 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-177438
公開番号（公開出願番号）：特開2000-286220
出願日： 1999年06月23日
公開日（公表日）： 2000年10月13日
要約：
【要約】【課題】 オゾンが溶解したオゾン水により基板の洗浄を行う場合において、オゾン水を最も洗浄効果の高い状態で基板に対し作用させて基板の洗浄効果を高めることができる装置を提供する。【手段】 処理槽10内の基板Wに対して純水を供給する純水供給ノズル14と、処理槽内の基板に対してオゾンガスを供給するガス吹出しノズル16とを備え、基板の表面上において純水にオゾンガスを溶解させてオゾン水を生成させる。
請求項（抜粋）：
オゾンが溶解したオゾン水またはオゾン液による基板の処理が行われる処理室と、この処理室内に収容された基板に対して純水または処理液を供給する液供給手段と、前記処理室内に収容された基板に対してオゾンガスを供給するガス供給手段と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 645 ,  H01L 21/304 647
FI (3件)：
H01L 21/304 643 C ,  H01L 21/304 645 Z ,  H01L 21/304 647 Z
引用特許：
審査官引用 (4件)
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