特許

J-GLOBAL ID：200903047217858722

ウエハチャック及びチルト角測定方法

発明者： 斎藤 保直 ,  吉原 秀雄
出願人/特許権者： エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-366638
公開番号（公開出願番号）：特開2000-195931
出願日： 1998年12月24日
公開日（公表日）： 2000年07月14日
要約：

【要約】【課題】 平面度測定装置では光学的に平面度を評価するため、ウエハチャックを0.05度以下の微少角度を高精度に設定する必要がある。このように、高精度に角度設定するためには、角度設定の経時変化、測定の再現性等を解決する必要がある。【解決手段】 上記課題を解決するため、本発明におけるウエハチャックは、ウエハを真空或いは静電吸着により平面矯正するウエハチャックにおいて、ウエハ吸着面と平行な面で光を反射するリファレンス面を有することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

ウエハを真空或いは静電吸着により平面矯正するウエハチャックにおいて、ウエハ吸着面と平行な面で光を反射するリファレンス面を有することを特徴とするウエハチャック。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  G01B 11/26 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

H01L 21/68 P ,  H01L 21/68 R ,  G01B 11/26 Z ,  H01L 21/30 503 C

Fターム (20件)：

2F065AA35 ,  2F065BB03 ,  2F065CC19 ,  2F065FF51 ,  2F065GG04 ,  2F065HH04 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ15 ,  2F065LL12 ,  5F031HA13 ,  5F031HA16 ,  5F031HA57 ,  5F031JA06 ,  5F031JA31 ,  5F031KA07 ,  5F046CC01 ,  5F046CC08 ,  5F046CC11 ,  5F046CC16 ,  5F046DB05

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 基板保持装置およびこれを用いた露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-232375   出願人：キヤノン株式会社
• ステージ検査装置及びその方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-326849   出願人：株式会社日立製作所
• 干渉計及びそれを取り付けたXYステージ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-161322   出願人：株式会社ニコン
• 反射率測定装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-337455   出願人：株式会社ニコン