特許
J-GLOBAL ID：200903047255969422

基板保持装置およびこれを利用した基板処理装置ならびに基板保持方法

発明者：
倉田 康弘

倉田 康弘 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 稲岡 耕作 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-174544
公開番号（公開出願番号）：特開平11-026540
出願日： 1997年06月30日
公開日（公表日）： 1999年01月29日
要約：
【要約】【課題】基板を傷つけたり汚染したりすることのない基板保持装置を提供する。【解決手段】ウエハWを両面洗浄ユニットに搬入するためにウエハWを保持して搬送する副搬送ロボットSTR1は、上アーム12を有している。上アーム12は、途中から斜め上方に折れ曲がっており、その上端に形成された純水吐出孔31からは純水が吐出されるようになっている。ウエハWを保持する際には、純水吐出孔31から純水が連続的に吐出され、上アーム12の一部である保持部12B の上面12b には、純水からなる水膜37が形成される。ウエハWはこの水膜37を介して上アーム12に保持される。
請求項（抜粋）：
基板を保持するための基板保持部材と、この基板保持部材の上面に液膜を形成するための液膜形成手段とを備え、上記基板保持部材は、その上面に形成された上記液膜を介して基板を保持するものであることを特徴とする基板保持装置。
IPC (4件)：
H01L 21/68 ,  B65G 49/07 ,  H01L 21/304 321 ,  H01L 21/304 341
FI (4件)：
H01L 21/68 A ,  B65G 49/07 G ,  H01L 21/304 321 A ,  H01L 21/304 341 C
引用特許：
審査官引用 (7件)
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