特許
J-GLOBAL ID:200903047302263606
静電チャック装置およびその製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-023192
公開番号(公開出願番号):特開平10-209256
出願日: 1997年01月22日
公開日(公表日): 1998年08月07日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】従来の装置は被吸着面に電極による凹凸があり、接着剤層によりそれを改良したものではその厚さにより熱伝導性が悪くなっていた。【解決手段】金属基盤1上に第1の接着剤層2a、セラミックからなる絶縁板7、第2の接着剤層2b、金属の蒸着膜またはメッキ膜からなる電極層3および絶縁性フィルム4を順次積層する構造とする。従来の各接着剤層を薄層にできるため、熱伝導性を改善できると同時に、絶縁性フィルムが疲労した場合の交換作業性が大幅に改善できる。
請求項(抜粋):
金属基盤上に第1の接着剤層、セラミックからなる絶縁板、第2の接着剤層、金属の蒸着膜またはメッキ膜からなる電極層および絶縁性フィルムを順次積層してなることを特徴とする静電チャック装置。
IPC (2件):
FI (2件):
H01L 21/68 R
, H02N 13/00 D
引用特許:
審査官引用 (6件)
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静電チャック装置およびその作製方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-311335
出願人:株式会社巴川製紙所, 株式会社東芝
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静電チャック
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-100701
出願人:株式会社創造科学, 有限会社宮田技研
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プラズマ処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-273138
出願人:東京エレクトロン株式会社
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プラズマ処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-320895
出願人:日新電機株式会社
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特開昭61-033833
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特表平6-506318
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