処理システムとこれを用いたデバイス生産方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：丸島儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-172066
公開番号（公開出願番号）：特開平9-026176
出願日： 1995年07月07日
公開日（公表日）： 1997年01月28日
要約：

【要約】【課題】主として空調の観点から、生産の設備コストやランニングコストの削減にアプローチすること。【解決手段】クリーンルームと、該クリーンルームのコンディション(クリーン度や温度など)を調整する調整手段と、クリーンルーム内に設置された処理装置と、該処理装置の稼働状況に応じて前記調整手段の動作を制御する制御手段とを有することにより、クリーンルーム内の必要な場所を必要な時に適切なレベルに向上することができる。

請求項（抜粋）：

クリーンルームと、該クリーンルームのコンディションを調整する調整手段と、クリーンルーム内に設置された処理装置と、該処理装置の稼動状況に応じて前記調整手段の動作を制御する制御手段とを有することを特徴とする処理システム。

IPC (2件)：

F24F 7/06 , H01L 21/02

FI (2件)：

F24F 7/06 C , H01L 21/02 D

引用特許：

審査官引用 (4件)

クリーンルーム
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-195934 出願人：日立プラント建設株式会社
クリーンルーム
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-342763 出願人：松下電子工業株式会社
特開平2-293554

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