異物検査装置および異物検査方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：筒井大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-157105
公開番号（公開出願番号）：特開平11-352075
出願日： 1998年06月05日
公開日（公表日）： 1999年12月24日
要約：

【要約】【課題】多様な基板パターンに対応するとともに異物検査装置の検出感度を向上する。【解決手段】基板パターン10および異物11をその表面に有するウェハ8が設置される基板ステージ1およびレーザ2を備え、検出レンズ3、空間フィルタ4、偏光板5、NDフィルタ6を含む光学系、および検出器7を有する異物検査装置において、空間フィルタ4として、ラインアンドスペースパターンの固定フィルタ4a、4bを各々のパターンが直交するように2枚以上配置する。また、空間フィルタとして液晶フィルタを2枚以上配置する。

請求項（抜粋）：

基板にレーザ光を照射する手段と、前記レーザ光の前記基板表面での回折光または散乱光を集光するレンズ系と、前記レンズ系で集光された回折光または散乱光を検出する光検出手段と、前記レンズ系と前記光検出手段との間の光路上に配置され、前記回折光または散乱光のうち前記基板の表面に形成されたパターンによって回折される回折光を遮光する空間フィルタとを有する異物検査装置であって、前記空間フィルタを複数枚重ねて前記光路上に配置することを特徴とする異物検査装置。

IPC (3件)：

G01N 21/88 , H01L 21/027 , H01L 21/66

FI (3件)：

G01N 21/88 F , H01L 21/66 J , H01L 21/30 502 V

引用特許：

出願人引用 (7件)

異物検査方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-098095 出願人：株式会社日立製作所
特開平4-074916
特開昭59-204820

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審査官引用 (6件)

異物検査方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-098095 出願人：株式会社日立製作所
特開平4-074916
特開昭59-204820

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