特許
J-GLOBAL ID：200903047399578339

パターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法

発明者：
若田 裕一

若田 裕一 について

, 
高橋 秀知

高橋 秀知 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (2件)： 廣田 浩一 ,  流 良広
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-068140
公開番号（公開出願番号）：特開2006-184840
出願日： 2005年03月10日
公開日（公表日）： 2006年07月13日
要約：
【課題】 感光層に含まれるバインダーのI/O値及びガラス転移温度が、ともに一定の数値範囲内であることにより、解像度及びテント性に優れ、しかも現像性にも優れ、かつエッジフュージョンの発生が抑制されるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 【解決手段】 支持体上に感光層を少なくとも有し、該感光層が、バインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を含み、該バインダーのI/O値が、0.300〜0.650であり、かつ、ガラス転移温度(Tg)が80°C以上であることを特徴とするパターン形成材料である。前記バインダーが共重合体を含み、該共重合体が、スチレン及びスチレン誘導体の少なくともいずれかに由来する構造単位を有することが好ましい。前記パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法である。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
支持体上に感光層を少なくとも有し、該感光層が、バインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を含み、該バインダーのI/O値が、0.300〜0.650であり、かつ、ガラス転移温度(Tg)が80°C以上であることを特徴とするパターン形成材料。
IPC (7件)：
G03F 7/033 ,  C08F 257/02 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/027 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/40 ,  H01L 21/027
FI (8件)：
G03F7/033 ,  C08F257/02 ,  G03F7/004 512 ,  G03F7/027 502 ,  G03F7/027 513 ,  G03F7/028 ,  G03F7/40 521 ,  H01L21/30 502R
Fターム (46件)：
2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AA13 ,  2H025AB11 ,  2H025AB15 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC32 ,  2H025BC42 ,  2H025BC45 ,  2H025BC51 ,  2H025CA01 ,  2H025CA14 ,  2H025CA18 ,  2H025CA28 ,  2H025CA31 ,  2H025CA39 ,  2H025CA48 ,  2H025CB16 ,  2H025CB60 ,  2H025FA40 ,  2H025FA43 ,  2H096AA26 ,  2H096BA05 ,  2H096BA20 ,  2H096EA02 ,  2H096EA04 ,  2H096HA17 ,  2H096HA27 ,  2H096JA04 ,  2H096LA16 ,  4J026AA17 ,  4J026AA43 ,  4J026AA45 ,  4J026AC23 ,  4J026AC34 ,  4J026AC36 ,  4J026BA28 ,  4J026BA29 ,  4J026BA30 ,  4J026DB06 ,  4J026DB09 ,  4J026DB11 ,  4J026DB36 ,  4J026FA05 ,  4J026GA08
引用特許：
審査官引用 (9件)
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