特許

J-GLOBAL ID：200903047484264386

イオンミリング装置、イオンミリング方法、イオンビーム照射装置並びにイオンビーム照射方法

発明者： 南 宏明 ,  市村 智 ,  大石 鉦太郎 ,  森山 正道
出願人/特許権者： リードライト・エスエムアイ株式会社 ,  株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 藤田 隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-354710
公開番号（公開出願番号）：特開2000-113849
出願日： 1998年12月14日
公開日（公表日）： 2000年04月21日
要約：

【要約】【課題】 プレミリングを行うことなく、1枚目の基板から安定したイオンミリングが行えるようにする。【解決手段】 イオン源チャンバー2内で発生させたプラズマ中のイオンをイオンビームとして引き出す引出電極3を備えたイオンミリング装置1において、引出電極3を加熱するヒータ18を設ける。また、引出電極3を若干湾曲させておく。

請求項（抜粋）：

イオン源チャンバー内で発生させたプラズマ中のイオンをイオンビームとして引き出す引出電極を備えたイオンミリング装置において、前記引出電極を加熱するヒータを設けたことを特徴とするイオンミリング装置。

IPC (3件)：

H01J 37/30 ,  H01J 27/02 ,  H01J 37/08

FI (3件)：

H01J 37/30 Z ,  H01J 27/02 ,  H01J 37/08

Fターム (9件)：

5C030DD10 ,  5C030DE04 ,  5C030DE10 ,  5C030DF07 ,  5C034AB09 ,  5C034BB05 ,  5C034CC19 ,  5C034CD02 ,  5C034CD09

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 特開昭57-163950
  
• イオンビーム引出装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-268723   出願人：石川島播磨重工業株式会社
• イオンミリング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-138924   出願人：富士通株式会社
• イオン源装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-357861   出願人：日新電機株式会社

審査官引用 (1件)

• 特開昭57-163950