電子ビーム装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-112489
公開番号（公開出願番号）：特開2003-308801
出願日： 2002年04月15日
公開日（公表日）： 2003年10月31日
要約：

【要約】【課題】試料表面をコンタミネーションの要因となりにくい不活性ガス等の雰囲気で被覆し、コンタミネーション膜生成の要因となるハイドロカーボンの原因となる残留ガスを試料表面から排除することで、コンタミネーション膜の堆積を低減すること。【解決手段】試料13を保持するための試料ステージには、試料13を固定する試料ホルダー14と、電子ビーム照射部に開口35を有して、試料表面周辺を微小な間隙で覆う試料カバー15と、試料ホルダー14と試料カバー15間の空間にガスを導入する機構とを設ける。本発明では、特殊な試料ホルダー13および試料カバー15から構成された電子ビーム装置用の特殊な試料ステージを機能させることにより、試料表面上の非常に薄い層のみを覆うガス層流を形成する。

請求項（抜粋）：

試料ステージに保持した試料上の電子ビーム照射位置を移動するための電子ビーム偏向機構および試料移動機構を有する電子ビーム装置において、前記試料ステージは、試料を固定する試料ホルダーと、電子ビーム照射部に開口を有して、試料表面周辺を微小な間隙で覆う試料カバーと、前記試料ホルダーと前記試料カバー間の空間にガスを導入する機構とを設けて、前記試料ホルダーと前記試料カバーによって、試料表面にガス層流を形成することを特徴とする電子ビーム装置。

IPC (2件)：

H01J 37/20 , H01J 37/18

FI (2件)：

H01J 37/20 G , H01J 37/18

Fターム (7件)：

5C001AA01 , 5C001BB02 , 5C001BB03 , 5C001CC04 , 5C001CC06 , 5C001DD01 , 5C033KK03

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開平4-057327
スパッタリング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-259580 出願人：松下電器産業株式会社
試料分析装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-027804 出願人：株式会社日立製作所

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審査官引用 (3件)

特開平4-057327
特開平4-057327
スパッタリング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-259580 出願人：松下電器産業株式会社

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