特許
J-GLOBAL ID：200903048024738629

可変面積型電子ビーム描画装置におけるビームの測定方法

発明者：
駒形 正

駒形 正 について


出願人/特許権者：
日本電子株式会社

日本電子株式会社 について


代理人 (1件)： 井島 藤治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-079077
公開番号（公開出願番号）：特開平11-271499
出願日： 1998年03月26日
公開日（公表日）： 1999年10月08日
要約：
【要約】【課題】 矩形ビームの左右の辺のシャープネスをも測定することができる可変面積型電子ビーム描画装置におけるビームの測定方法を実現する。【解決手段】 制御CPUはステージ駆動回路39を制御して、ステージ38を移動させ、検出器40を電子ビームEBの光軸の下に位置させる。この状態で図5と同様に、検出器40におけるナイフエッジ部材を横切って電子ビームの走査を行う。この走査は、位置決め偏向器制御回路34から位置決め偏向器29に走査信号を供給することによって行う。この走査により、検出器40から得られた信号は、AD変換器41を経て波形メモリー42に供給される。波形メモリー42に記憶された信号と、制御CPU30に記憶された評価関数とにより、カーブフィッティング処理が施される。
請求項（抜粋）：
第1スリットと第2スリットとにより矩形ビームを成形するようにした可変面積型電子ビーム描画装置において、電子ビームを直線状のエッジを有した部材を横切って走査し、この走査に伴って検出された電子ビームの信号の変化に対してカーブフィッティングを施し、電子ビームのビームサイズ、ビーム位置、第1スリットのフォーカス情報、第2スリットのフォーカス情報を測定するようにした可変面積型電子ビーム描画装置におけるビームの測定方法。
IPC (3件)：
G21K 5/04 ,  G01T 1/29 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G21K 5/04 C ,  G01T 1/29 B ,  H01L 21/30 541 N
引用特許：
審査官引用 (8件)
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