特許
J-GLOBAL ID：200903048273006409

荷電粒子ビーム装置における汚染除去方法及び荷電粒子ビーム装置

発明者：
本 田 和 広

本 田 和 広 について

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小 野 幸

小 野 幸 について

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河 合 英 治

河 合 英 治 について

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菅 原 秀 郎

菅 原 秀 郎 について


出願人/特許権者：
日本電子株式会社

日本電子株式会社 について

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株式会社日本レーザー

株式会社日本レーザー について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-044003
公開番号（公開出願番号）：特開2001-236914
出願日： 2000年02月22日
公開日（公表日）： 2001年08月31日
要約：
【要約】【課題】 被照射対象物の汚染及び/若しくは帯電を無くす。【解決手段】 電子銃1、集束レンズ2、偏向器4、ブランかー13、エキシマ光源21を備え、走査制御回路9から走査信号を偏向器4に供給して電子ビームにより試料3上を二次元的に走査する様に成す。ブランキング信号発生回路12から走査信号に同期したブランキング信号をブランカ13に供給して電子ビームの試料上走査において定期的に電子ビームにブランキングを掛けると同時に、エキシマ光源制御回路22からブランキング信号に同期した高電圧印加タイミング信号をエキシマ光源21に供給して、ブランキング期間以内の期間にエキシマ光を発生させ、試料3上の電子ビーム走査領域30を含むエキシマ光照射領域31にエキシマ光を照射するようにする。
請求項（抜粋）：
被照射対象物上の荷電粒子ビーム照射領域に被照射対象物に吸着しているハイドロカーボン系分子のC-C結合及びC-H結合を切るエネルギーを有する光を照射するようにした荷電粒子ビーム装置における汚染除去方法。
IPC (8件)：
H01J 37/20 ,  G21K 5/00 ,  G21K 5/04 ,  H01J 37/22 502 ,  H01J 37/28 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/3065 ,  H01S 3/00
FI (9件)：
H01J 37/20 G ,  H01J 37/20 H ,  G21K 5/00 Z ,  G21K 5/04 E ,  H01J 37/22 502 A ,  H01J 37/28 B ,  H01S 3/00 Z ,  H01L 21/30 541 Z ,  H01L 21/302 B
Fターム (20件)：
5C001AA01 ,  5C001BB07 ,  5C001CC04 ,  5C001DD01 ,  5C033FF04 ,  5F004AA15 ,  5F004AA16 ,  5F004BA17 ,  5F004BB04 ,  5F004EA39 ,  5F056AA33 ,  5F056CC04 ,  5F056DA23 ,  5F056DA30 ,  5F056EA08 ,  5F072AA06 ,  5F072HH03 ,  5F072RR05 ,  5F072SS06 ,  5F072YY09
引用特許：
審査官引用 (4件)
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