特許
J-GLOBAL ID：200903048276122892

基板処理装置および基板洗浄方法

発明者：
平得 貞雄

平得 貞雄 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 松阪 正弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-082698
公開番号（公開出願番号）：特開2003-275696
出願日： 2002年03月25日
公開日（公表日）： 2003年09月30日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 純水による洗浄が困難な基板の洗浄を行う基板処理装置を提供する。【解決手段】 基板9に処理を施す基板処理装置1において、支持部21に支持された基板9の被処理面に対向してIPA(イソプロピルアルコール)噴出ノズル40を設ける。IPA噴出ノズル40はアーム42を介してノズル揺動機構43により揺動可能に支持される。IPA噴出ノズル40にはIPA供給管411および窒素ガス供給管412が接続される。各供給管より供給されたIPAおよび窒素ガスはIPA噴出ノズル40により混合され、IPA微小液滴が生成される。生成されたIPA微小液滴は基板9の被処理面に向けて噴出される。その結果、基板9の被処理面をIPAを用いて洗浄することができる。
請求項（抜粋）：
基板に処理を施す基板処理装置であって、基板を支持する支持部と、前記支持部に支持される基板の被処理面に向けてIPA微小液滴を噴出するノズル部と、を備えることを特徴とする基板処理装置。
IPC (7件)：
B08B 3/08 ,  B08B 3/02 ,  B08B 3/10 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 647
FI (7件)：
B08B 3/08 Z ,  B08B 3/02 B ,  B08B 3/10 A ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/304 647 Z
Fターム (16件)：
2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088MA20 ,  2H090JB02 ,  2H090JC19 ,  3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB34 ,  3B201AB42 ,  3B201BB22 ,  3B201BB38 ,  3B201BB45 ,  3B201BB93 ,  3B201BB95 ,  3B201CC12
引用特許：
審査官引用 (6件)
  • 液処理方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-212258   出願人：東京エレクトロン株式会社
  • 基板の洗浄・乾燥装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-207580   出願人：株式会社カイジョー
  • 基板洗浄装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-294496   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
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