特許
J-GLOBAL ID：200903078772152447
基板洗浄装置
出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社
大日本スクリーン製造株式会社 について
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-294496
公開番号（公開出願番号）：特開平11-135470
出願日： 1997年10月27日
公開日（公表日）： 1999年05月21日
要約：
【要約】【課題】 ノズルの姿勢を制御することで、ノズルの待機スペースの縮小化を図るとともに、常に最適な条件で洗浄することができる基板洗浄装置を提供する。【解決手段】 基板Wに対して洗浄処理を行わないときには、保持アーム5に保持されたノズル4はほぼ鉛直姿勢で待機ポット11に収納されている。洗浄処理を行う時には、保持アーム5は上昇しつつ揺動変位してほぼ横臥姿勢となる。この保持アーム5の変位に連動して、ノズル4はほぼ鉛直姿勢から所定の傾斜姿勢にまで揺動変位する。したがって、ノズル4を使用しないときには、鉛直姿勢で待機ポット11に収納するので、待機ポット11をほぼ鉛直方向に設ければよく、平面視した場合のノズル4の待機スペースを縮小化できる。また、洗浄処理時のノズル4の姿勢を容易に変更することができるので、常に最適な条件で洗浄することができる。
請求項（抜粋）：
基板処理領域にある基板に洗浄処理を行う基板洗浄装置において、基板の洗浄面に向けて処理液を噴出して供給するノズルと、前記ノズルを先端部に保持する保持アームと、基板の洗浄処理を行わないときに、前記保持アームを基板処理領域から外れた待機位置に移動させる一方、基板の洗浄処理を行うときに、前記ノズルが基板の処理位置に来るように、前記保持アームを変位させるアーム駆動手段と、前記保持アームが待機位置にあるときに、前記ノズルをほぼ鉛直姿勢にする一方、基板の洗浄処理を行うときに、基板の洗浄面に向けて斜めから処理液を噴出して供給するように、前記ノズルを傾斜姿勢に揺動変位させるノズル揺動手段と、前記保持アームが待機位置にある状態で、ほぼ鉛直姿勢のノズルから噴出される処理液を受け止める待機ポットとを備えたことを特徴とする基板洗浄装置。
IPC (4件)：
FI (4件)：
引用特許：
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