特許
J-GLOBAL ID：200903048279293027
真空薄膜の製造方法、真空薄膜/基材積層品および金属層/基材積層品
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岩見 知典
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-261973
公開番号（公開出願番号）：特開2006-077286
出願日： 2004年09月09日
公開日（公表日）： 2006年03月23日
要約：
【課題】 基材の端部を遮蔽することなく、基材端部にまで有効な真空薄膜を製造する方法を提供する。本発明により、基材の端部まで全面が均一な真空薄膜を得ることができる。 【解決手段】 基材上に真空薄膜を形成する方法において、該基材が該基材の幅より大きな幅を持つ支持体に近接または接触しており、かつ該基材の両端部のさらに外側に該支持体がはみ出し、該支持体のはみ出した部分に被覆シートを配設させた状態で成膜することを特徴とする真空薄膜の製造方法。 【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基材上に真空薄膜を形成する方法において、該基材の幅より大きな幅を持つ支持体に、該基材を、該基材の両端部のさらに外側に該支持体がはみ出すように近接または接触させ、そして該支持体の該基材からはみ出した部分に被覆シートを配設させた状態で成膜することを特徴とする真空薄膜の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (27件)：
4F211AG23
, 4F211SA07
, 4F211SC07
, 4F211SC09
, 4F211SD01
, 4F211SD11
, 4F211SJ15
, 4F211SP01
, 4F211SP17
, 4K029AA11
, 4K029AA25
, 4K029BA01
, 4K029BA03
, 4K029BA04
, 4K029BA05
, 4K029BA06
, 4K029BA07
, 4K029BA09
, 4K029BA11
, 4K029BA12
, 4K029BA13
, 4K029BA16
, 4K029BA17
, 4K029BA18
, 4K029DA10
, 4K029KA03
, 4K029KA07
