研磨装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：宮川貞二 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-214218
公開番号（公開出願番号）：特開2002-028853
出願日： 2000年07月14日
公開日（公表日）： 2002年01月29日
要約：

【要約】【課題】パッドの交換が容易であり、また固定砥粒を用いようとすれば容易にそれを実現できる研磨装置を提供する。【解決手段】被研磨物Wを保持するトップリング17と;トップリング17に対して相対的に移動する研磨テーブル12であって、トップリング17に保持された被研磨物Wを研磨する研磨面を有する研磨テーブル12と;前記研磨面13に研磨液を供給する研磨液供給手段とを備え;トップリング17と研磨テーブル12の少なくとも一方が第1の方向(x軸方向)に往復直線運動するように構成される研磨装置。トップリングと研磨テーブルの少なくとも一方が第1の方向に往復直線運動するように構成されるので、均一な研磨ができる。

請求項（抜粋）：

被研磨物を保持するトップリングと;前記トップリングに対して相対的に移動する研磨テーブルであって、前記トップリングに保持された前記被研磨物を研磨する研磨面を有する研磨テーブルと;前記研磨面に研磨液を供給する研磨液供給手段とを備え;前記トップリングと前記研磨テーブルの少なくとも一方が第1の方向に往復直線運動するように構成された;研磨装置。

IPC (3件)：

B24B 37/04 , H01L 21/304 621 , H01L 21/304 622

FI (3件)：

B24B 37/04 G , H01L 21/304 621 B , H01L 21/304 622 M

Fターム (9件)：

3C058AA09 , 3C058AA15 , 3C058AA16 , 3C058AA19 , 3C058AB01 , 3C058AB04 , 3C058AC04 , 3C058CB04 , 3C058DA17

引用特許：

審査官引用 (9件)

研磨装置及び研磨方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-094141 出願人：株式会社ニコン
研磨装置における研磨布自動交換装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-136799 出願人：株式会社東京精密
研磨装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-361207 出願人：ティーディーケイ株式会社

全件表示

前のページに戻る