特許
J-GLOBAL ID：200903048304311744
少なくとも炭素原子数3の炭化水素留分の選択的水素化方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岸本 瑛之助 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-524072
公開番号（公開出願番号）：特表平11-506801
出願日： 1996年12月27日
公開日（公表日）： 1999年06月15日
要約：
【要約】本発明は、1分子当り少なくとも炭素原子数3を含む炭化水素を少なくとも含む仕込原料の処理方法に関する。該炭化水素は、アセチレン系およびジオレフィン系炭化水素である。前記方法は、水素化反応帯域に組合わされた蒸留帯域内での前記仕込原料の通過を含むものである。該水素化反応帯域は、前記蒸留帯域の内部あるいは外部にある少なくとも1つの水素化触媒床を含んでおり、該水素化反応帯域内で、水素に富むガス流の存在下に前記仕込原料中に含まれるアセチレン系およびジオレフィン系炭化水素の少なくとも一部の水素化が行われる。この方法は、接触クラッキングにより生じた生成物の処理に特に適用される。
請求項（抜粋）：
分子当り炭素原子数3〜10の炭化水素を含む仕込原料の処理方法であって、該炭化水素がアセチレン系およびジオレフィン系炭化水素である方法において、前記仕込原料を、少なくとも1つの触媒床からなる選択的水素化反応帯域に組合わされた蒸留帯域内での通過により処理し、該水素化反応帯域内で、水素に富むガス流の存在下に前記仕込原料中に含まれるアセチレン系およびジオレフィン系炭化水素の少なくとも一部の水素化を行うことを特徴とする処理方法。
引用特許：
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