特許
J-GLOBAL ID：200903048623041202

マルチバンド描画機

発明者：
森田 英行

森田 英行 について


出願人/特許権者：
旭光学工業株式会社

旭光学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 松岡 修平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-370083
公開番号（公開出願番号）：特開2001-183808
出願日： 1999年12月27日
公開日（公表日）： 2001年07月06日
要約：
【要約】【課題】 機械的な調整では補正することのできない範囲での誤差を、描画時において補正し、描画精度を上げて描画することのできる、マルチバンド描画機における描画位置補正方法を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明のマルチバンド描画機は、感光材に対するビームの照射により描画される描画パターン全体が、複数のバンドに基づく部分描画領域の合成として得られるマルチバンド描画機であって、所定のバンドに対する描画開始位置情報記憶手段と、前記記憶手段に格納されている所定のバンドの描画開始位置情報に基づいて、任意のバンドの描画開始位置情報を求める、描画開始位置演算手段と、前記描画開始位置演算手段により求めた描画開始位置に従って、各バンドを描画する描画制御手段とによって構成される。
請求項（抜粋）：
感光材に対するビームの照射により描画される描画パターン全体が、複数のバンドに基づく部分描画領域の合成として得られるマルチバンド描画機であって、所定のバンドに対する描画開始位置情報記憶手段と、前記記憶手段に格納されている所定のバンドの描画開始位置情報に基づいて、任意のバンドの描画開始位置情報を求める、描画開始位置演算手段と、前記描画開始位置演算手段により求めた描画開始位置に従って、各バンドを描画する描画制御手段とを備えること、を特徴とするマルチバンド描画機。
IPC (2件)：
G03F 1/08 ,  G03F 7/20
FI (2件)：
G03F 1/08 C ,  G03F 7/20
Fターム (12件)：
2H095AA01 ,  2H095AB08 ,  2H095AB25 ,  2H095AC04 ,  2H095BB02 ,  2H095BB33 ,  2H095BB34 ,  2H095BB36 ,  2H097AA04 ,  2H097BA00 ,  2H097KA29 ,  2H097LA09
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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