特許
J-GLOBAL ID：200903048654663376

露光方法

発明者：
岡本 洋基

岡本 洋基 について

, 
川久保 昌治

川久保 昌治 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-235690
公開番号（公開出願番号）：特開平9-082607
出願日： 1995年09月13日
公開日（公表日）： 1997年03月28日
要約：
【要約】【目的】 アライメント・ターゲット層露光号機のレンズ・ディストーションの影響を受けずにレチクルパターンをショット領域に高精度に重ね合わせすることのできる露光方法を提供する。【構成】 各露光号機の投影レンズのディストーションデータ自体は露光号機毎に既知であるので、アライメントターゲット層露光号機が既知の場合には、その露光号機の既知のデータを用いて、多点EGA演算で求められた投影倍率及び/又はショット回転を補正し、その補正された量で露光装置を調整する(ステップ105、106)。アライメントターゲット層露光号機が未知の場合には、ショット内のアライメントマーク計測値から算出された非線形誤差の分布状態からアライメントマーク露光号機を特定する。レチクルパターンは、こうして求められた正しい投影倍率、ショット回転のもとでショット領域に高精度に重ね合わせて露光される。
請求項（抜粋）：
被処理基板上に整列した複数のショット領域にレチクルのパターンを順次重ね合わせて投影露光する露光方法において、ショット領域内の複数のアライメントマーク位置を計測する工程と、前記計測されたアライメントマーク位置及び前記アライメントマーク形成に使用された投影レンズのディストーションデータを用いてレチクルパターンの投影倍率と投影像の回転との少なくとも一方を調整する工程とを含むことを特徴とする露光方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/207 ,  G03F 9/00
FI (6件)：
H01L 21/30 515 E ,  G03F 7/207 H ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 516 B ,  H01L 21/30 520 A ,  H01L 21/30 527
引用特許：
出願人引用 (5件)
  • 露光方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-149278   出願人：株式会社ニコン
  • 特開平4-127514
  • 露光装置および露光方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-254669   出願人：三菱電機株式会社
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審査官引用 (5件)
  • 露光方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-149278   出願人：株式会社ニコン
  • 特開平4-127514
  • 露光装置および露光方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-254669   出願人：三菱電機株式会社
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