特許
J-GLOBAL ID：200903029302951644

感光性ポリマーおよびこれを含有する化学増幅型レジスト組成物

発明者：
崔 相 俊

崔 相 俊 について

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金 賢 友

金 賢 友 について

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禹 相 均

禹 相 均 について

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文 周 泰

文 周 泰 について


出願人/特許権者：
三星電子株式会社

三星電子株式会社 について


代理人 (1件)： 八田 幹雄 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-354974
公開番号（公開出願番号）：特開2001-188352
出願日： 2000年11月21日
公開日（公表日）： 2001年07月10日
要約：
【要約】【課題】 製造コストが低廉でありつつ乾式蝕刻に対する耐性を十分に確保すると同時に、下部膜質に対する優れた接着特性を持つ感光性ポリマーおよびこれを含有するArFエクシマレーザ用レジスト組成物を提供することにある。【解決手段】 重量平均分子量が3,000〜100,000であり、式【化1】(式中、R1 は水素原子またはメチル基であり、R2 は酸により分解されうる第3アルキル基であり、m/(m+n)=0.5〜0.8である。)で示される感光性ポリマーである。
請求項（抜粋）：
重量平均分子量が3,000〜100,000であり、式【化1】(式中、R1 は水素原子またはメチル基であり、R2 は酸により分解されうる第3アルキル基であり、m/(m+n)=0.5〜0.8である。)で示される感光性ポリマー。
IPC (9件)：
G03F 7/039 601 ,  C08F220/18 ,  C08F222/06 ,  C08K 5/00 ,  C08L 33/06 ,  C08L 35/00 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027
FI (9件)：
G03F 7/039 601 ,  C08F220/18 ,  C08F222/06 ,  C08K 5/00 ,  C08L 33/06 ,  C08L 35/00 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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