特許

J-GLOBAL ID：200903048953844093

光ディスク保護膜形成用スパッタリングターゲット

発明者： 大橋 建夫 ,  高見 英生 ,  伊森 徹
出願人/特許権者： 株式会社日鉱マテリアルズ
代理人 (1件)： 小越 勇 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-107770
公開番号（公開出願番号）：特開2001-295034
出願日： 2000年04月10日
公開日（公表日）： 2001年10月26日
要約：

【要約】【課題】 ターゲットの材料である粉末の改善を図り、これによって形成したターゲットを用いてDCスパッタリングを可能とすることにより成膜の均一性を高め、生産効率を上げることができる光ディスク保護膜形成用スパッタリングターゲットを得ることを目的とする。【解決手段】 酸化物、窒化物、炭化物、ほう化物、硫化物、けい化物から選択した少なくも1以上のセラミックス粉末に金属又は合金をコーティング又は混合した粉末を主成分とする焼結体からなることを特徴とする光ディスク保護膜形成用スパッタリングターゲット。

請求項（抜粋）：

酸化物、窒化物、炭化物、ほう化物、硫化物、けい化物から選択した少なくとも1以上のセラミックス粉末に金属又は合金をコーティング又は混合した粉末を主成分とする焼結体からなることを特徴とする光ディスク保護膜形成用スパッタリングターゲット。

IPC (4件)：

C23C 14/34 ,  C04B 35/547 ,  C04B 35/14 ,  G11B 7/26

FI (4件)：

C23C 14/34 A ,  C04B 35/14 ,  G11B 7/26 ,  C04B 35/00 T

Fターム (23件)：

4G030AA37 ,  4G030AA56 ,  4G030AA61 ,  4G030BA09 ,  4G030GA01 ,  4G030GA29 ,  4K029BA43 ,  4K029BA46 ,  4K029BA51 ,  4K029BA52 ,  4K029BA53 ,  4K029BA55 ,  4K029BA58 ,  4K029BD12 ,  4K029CA05 ,  4K029DC03 ,  4K029DC04 ,  4K029DC05 ,  4K029DC09 ,  5D121AA04 ,  5D121EE03 ,  5D121EE09 ,  5D121EE14

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 光磁気記録媒体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-287271   出願人：ソニー株式会社
• 光記録膜用保護膜のための焼結体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-083794   出願人：住友金属鉱山株式会社
• スパッタ割れのない光記録媒体保護膜形成用スパッタリングターゲット
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-000593   出願人：三菱マテリアル株式会社