特許
J-GLOBAL ID：200903049010722386
ナノレベル構造組成観察用試料の作製方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
眞鍋 潔
, 柏谷 昭司
, 渡邊 弘一
, 伊藤 壽郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-078449
公開番号（公開出願番号）：特開2006-258680
出願日： 2005年03月18日
公開日（公表日）： 2006年09月28日
要約：
【課題】 ナノレベル構造組成観察用試料の作製方法に関し、試料にダメージを与えることなく、より容易に保護層を除去する。【解決手段】 試料母体の表面に保護層2を形成したのち、保護層2上から加工を施すことによって試料母体を針状試料1に加工する際に、針状試料1の頂部から遊離した保護層成分4を検出することによって加工の終点を検出する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
針状試料の表面より、外部エネルギー或いは内部エネルギーにより原子1つ1つ或いは複数の元素からなるクラスター1集団1集団が外部空間に離脱することにより前記針状試料のナノレベルの構造組成を観察するためのナノレベル構造組成観察用試料の作製方法において、試料母体の表面に保護層を形成する工程、前記保護層上から加工を施すことによって前記試料母体を針状試料に加工する際に、針状試料の頂部から遊離した前記保護層成分を検出することによって加工の終点を検出する工程を有することを特徴とするナノレベル構造組成観察用試料の作製方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (7件)：
2G052AA13
, 2G052AD32
, 2G052EC12
, 2G052EC14
, 2G052FD06
, 2G052GA13
, 2G052GA24
出願人引用 (2件)
審査官引用 (5件)
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引用文献：
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