特許

J-GLOBAL ID：200903049176738418

成膜装置及びその運転方法

発明者： 斉藤 真佐雄
出願人/特許権者： 株式会社荏原製作所
代理人 (1件)： 渡邉 勇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-155382
公開番号（公開出願番号）：特開平11-335846
出願日： 1998年05月20日
公開日（公表日）： 1999年12月07日
要約：

【要約】【課題】 例えば、保守作業後の成膜装置の立ち上げの際に、装置部品や配管の残留ガスを完全に除去して、これによる汚染を排除することができる成膜装置を提供する。【解決手段】 基板Wを内部に保持する成膜室18と、成膜室において原料ガスを基板に噴射するシャワヘッド32と、原料ガスを原料供給配管20を介してシャワヘッドに供給する気化器10と、成膜室を排気する主排気手段24を備え、シャワヘッドを原料供給配管側から直接に排気するバイパス配管44が設けられている。

請求項（抜粋）：

基板を内部に保持する成膜室と、成膜室において原料ガスを前記基板に噴射するシャワヘッドと、原料ガスを原料供給配管を介して前記シャワヘッドに供給する気化器と、成膜室を排気する主排気手段を備え、前記シャワヘッドを前記原料供給配管側から直接に排気する直接排気ラインが設けられていることを特徴とする成膜装置。

IPC (3件)：

C23C 16/44 ,  C23C 16/40 ,  H01L 21/31

FI (4件)：

C23C 16/44 D ,  C23C 16/44 C ,  C23C 16/40 ,  H01L 21/31

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 成膜処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-351800   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 減圧処理装置の排気方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-200014   出願人：国際電気株式会社
• 気相化学反応装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-268433   出願人：株式会社日立製作所