特許
J-GLOBAL ID:200903049182227301
研磨方法及び研磨装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
八田 幹雄 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-365187
公開番号(公開出願番号):特開2000-190206
出願日: 1998年12月22日
公開日(公表日): 2000年07月11日
要約:
【要約】【課題】 乾式研磨において、従来人手で行っていた研磨砥粒の塗布調整作業を自動化することにより、研磨プロセスの効率化と共に、作業者間のバラツキをなくし、常時適切な条件で研磨できる研磨方法及びそのための装置を提供する。【解決手段】 ポリッシャを貼付した研磨定盤を回転させるとともに、自動砥粒供給手段から研磨砥粒を前記ポリッシャ上に供給し、研磨砥粒ならし手段により該砥粒を前記ポリッシャに一様に分布・保持させながら、被加工物を前記ポリッシャに押し付けて乾式研磨することにより、被加工物の研磨表面を鏡面研磨する方法、及び、そのための研磨装置である。
請求項(抜粋):
ポリッシャを貼付した研磨定盤を回転させるとともに、自動砥粒供給手段から研磨砥粒を前記ポリッシャ上に供給し、研磨砥粒ならし手段により該砥粒を前記ポリッシャに一様に分布・保持させながら、被加工物を前記ポリッシャに押しつけて乾式研磨することにより、被加工物の研磨表面を鏡面研磨することを特徴とする研磨方法。
IPC (3件):
B24B 37/00
, H01L 21/304 621
, H01L 21/304 622
FI (3件):
B24B 37/00 Z
, H01L 21/304 621 B
, H01L 21/304 622 B
Fターム (11件):
3C058AA07
, 3C058AA09
, 3C058AC01
, 3C058AC04
, 3C058BA08
, 3C058BA09
, 3C058BC03
, 3C058CB01
, 3C058CB03
, 3C058CB10
, 3C058DA02
引用特許:
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