特許
J-GLOBAL ID：200903049200573000
クリーンルームおよび基板搬送システム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
金本 哲男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-040385
公開番号（公開出願番号）：特開平7-263172
出願日： 1994年02月15日
公開日（公表日）： 1995年10月13日
要約：
【要約】【目的】 クリーンルーム内の被処理体表面の有機物汚染を防止し、表面抵抗率の経時的増加を抑えることができるクリーンルームを提供する。【構成】 本発明によれば、クリーンルーム100の外気取入系、空気循環系またはそれら双方にガス状不純物除去装置200を設けることにより、クリーンルーム内の清浄空気に含有される炭化水素系ガスの濃度を0.1ppm以下、好ましくは0.05ppm以下、さらに好ましくは0.01ppm以下に抑えられる。その結果、炭化水素系ガスに起因する半導体ウェハやLCD基板などの被処理体の有機物汚染の経時的増大を効果的に抑え、被処理体の表面抵抗率の増大を抑えることが可能となり、帯電によるパーティクルの吸着や、形成された素子の絶縁破壊などの不測の事態を防止することが可能であり、製品の歩留まりを向上させることができる。
請求項（抜粋）：
外気と隔離された空間内に清浄空気を供給し循環させるクリーンルームにおいて、その清浄空気に含有される炭化水素系ガス濃度を0.1ppm以下に抑えたことを特徴とする、クリーンルーム。
IPC (4件)：
H05F 3/02
, H01L 21/02
, H05F 3/04
, H05F 3/06
